H-GLow：通过危险率引导的离散流匹配加速图生成

H-GLow提出危险率引导框架，通过规划图编辑、按图活动动态调整采样时间，以更少采样步数提升图生成质量。该框架可适配预训练图离散流匹配模型，另提出直接预测危险率与条件跳转的新模型。分子和合成图基准实验显示，生成质量提升且采样步数显著减少。